作为纳米科技中的非常活跃的一个研究领域，在本专著中系统地研究了氧化亚铜纳米线的制备和应用。尤其氧化亚铜是具有优异的光学和电磁学性能的重要的半导体材料之一，是本研究的核心。

岳玉梅、张利国、姬书得编著的《基于应力诱导法的氧化亚铜纳米线制备及其应用的研究》分别研究了氧化亚铜纳米线的制备，进而可控制其纳米线的直径，并深刻探究纳米线的生长机理。此外，实现了在指定位置特定形状的纳米线的制备，以及进一步扩展纳米线的应用领域。本专著的研究将为纳米线在众多工业中的应用打下坚实的理论和试验基础。

1 绪论

 1.1 研究背景和动机

 1.2 目前研究难点和挑战

 1.3 研究宗旨和目标

 1.4 研究的主要内容

2 纳米线制备与评估

 2.1 实验步骤

 2.2 直接降温过程和阶梯降温过程

 2.3 纳米线最佳制备条件

 2.4 纳米线直径的可控性

 2.5 纳米线成分分析

3 纳米线生长机理分析

 3.1 Cu薄膜内应力分析

 3.2 加热过程

 3.3 阶梯降温过程

4 指定位置纳米线的生长

 4.1 实验过程

 4.2 改善措施

5 光电效应的应用

 5.1 简介

 5.2 样品制备

 5.3 暗电流曲线

 5.4 伏安特性曲线

6 结论

参考文献