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图书 图解入门(半导体器件缺陷与失效分析技术精讲)/集成电路科学与技术丛书
内容
内容推荐
本书共分为4章,内容包括半导体器件缺陷及失效分析技术概要、硅集成电路(LSI)的失效分析技术、功率器件的缺陷及失效分析技术、化合物半导体发光器件的缺陷及失效分析技术。笔者在书中各处开设了专栏,用以介绍每个领域的某些方面。在第2~4章的末尾各列入了3道例题,这些例题出自日本科学技术联盟主办的“初级可靠性技术者”资格认定考试,题型为5选1,希望大家可以利用这些例题来测试一下自身的水平。
本书的读者包括:半导体器件工艺及器件的相关技术人员,可靠性技术人员,失效分析技术人员,试验、分析、实验的负责人,以及大学生、研究生等。因此,罗列的内容层次从基础介绍到最新研究,覆盖范围较广。
作者简介
上田修,东京大学工学部物理工学博士。1974-2005年,在富士通研究所(股份有限公司)从事半导体中晶格缺陷的分析以及半导体发光器件、电子器件劣化机制阐明的研究。2005-2019年,在金泽工业大学研究生院工学研究科任教授。现为明治大学客座教授。
目录
前言
第1章 半导体器件缺陷及失效分析技术概要
1.1 失效分析的定位
1.2 缺陷分析的定位
1.3 用于缺陷及失效分析的分析工具概要
专栏:NANOTS的成立与更名
第1章参考文献
第2章 硅集成电路(LSI)的失效分析技术
2.1 失效分析的步骤和近8年新开发或普及的技术
2.2 封装部件的失效分析
2.3 芯片部件失效分析过程和主要失效分析技术一览
2.4 芯片部件的无损分析方法
2.5 芯片部件的半破坏性分析
2.6 物理和化学分析方法
专栏:应该如何命名
第2章练习题
第2章缩略语表
第2章参考文献
第3章 功率器件的缺陷及失效分析技术
3.1 功率器件的结构和制造工艺
3.2 由晶圆制造工艺引起的器件缺陷及失效分析技术
专栏:晶圆背面状态对工艺的影响
3.3 由芯片制造工艺引起的器件缺陷及失效分析技术
专栏:碱金属的加速氧化
3.4 由模块制造工艺引起的设备缺陷及失效分析技术
3.5 功率器件的其他分析技术
专栏:增大用于功率器件的晶圆直径
第3章练习题
第3章参考文献
第4章 化合物半导体发光器件的缺陷及失效分析技术
4.1 化合物半导体发光器件的工作原理和结构
4.2 化合物半导体发光器件的可靠性(以半导体激光器为例)
4.3 化合物半导体发光器件的可靠性测试
4.4 化合物半导体发光器件缺陷及失效分析的基本技术
4.5 化合物半导体发光器件缺陷及失效分析流程图
专栏:高速增长的VCSEL市场,可靠性没问题?不!
第4章练习题
第4章缩略语表
第4章参考文献
作者介绍
练习题答案
标签
缩略图
书名 图解入门(半导体器件缺陷与失效分析技术精讲)/集成电路科学与技术丛书
副书名
原作名
作者 (日)上田修//山本秀和
译者 译者:李哲洋//于乐//汪久龙//沈斌清//张欣然等
编者 (日)二川清
绘者
出版社 机械工业出版社
商品编码(ISBN) 9787111749622
开本 16开
页数 159
版次 1
装订 平装
字数 196
出版时间 2024-02-01
首版时间 2024-02-01
印刷时间 2024-02-01
正文语种
读者对象 本科及以上
适用范围
发行范围 公开发行
发行模式 实体书
首发网站
连载网址
图书大类 科学技术-工业科技-电子通讯
图书小类
重量 404
CIP核字 2023250606
中图分类号 TN305-64
丛书名
印张 10.5
印次 1
出版地 北京
240
185
10
整理
媒质
用纸
是否注音
影印版本
出版商国别
是否套装
著作权合同登记号
版权提供者
定价
印数
出品方
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更新时间:2025/5/8 2:27:12