《真空镀膜》由李云奇编著，本书突出近代技术进步、注重系统、强调实用性、突出丛书指导思想而重新编写的。本书的内容能提高读者在真空镀膜工程上解决实际问题的能力，是一本有一定深度及针对性，更有通用性的科技书籍。

本书可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用，亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。

《真空科学技术丛书：真空镀膜》是本着突出近代真空镀膜技术进步，注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有权威性、实用性和通用性。

《真空科学技术丛书：真空镀膜》可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用，亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。

第1章 真空镀膜概论

第2章 真空镀膜技术基础

第3章 蒸发源与溅射靶

第4章 真空蒸发镀膜

第5章 真空溅射镀膜

第6章 真空离子镀膜

第7章 离子束沉积与离子束辅助沉积

第8章 化学气相沉积

第9章 薄膜的测量与监控

第10章 薄膜性能分析

第11章 真空镀膜技术中的清洁处理

参考文献