薄膜在微电子器件、肱存储介质和表面封装等技术应用领域发挥着重要作用，本书全面阐述了薄膜中的应力以及因其产生的缺陷形成和表面演化等问题。本书内容兼顾理论、实验和计算机模拟，适合工程技术人员、材料科学和物理学研究人员阅读。本书英文版被美国哈佛大学、布朗大学、麻省理工学院、斯坦福大学等大学用作研究生教材。

本书总结了过去几十年里薄膜材料的研究进展，同时将重点放在薄膜中内应力的起源、发展及其影响等诸多方面，书中不仅系统考虑了薄膜一基底系统或多层膜系统的整体变形及薄膜的断裂、脱层和翘曲，而且还考虑了更小尺度上薄膜中位错的形成及非弹性变形。薄膜中应力的影响与薄膜材料结构之间的联系贯穿于整书的讨论。通过举例计算和有实际意义的实例分析及讨论，更加具体地阐明了书中的基本概念，并于每章后附有习题。

本书可供从事材料科学和工程及相关研究领域工作，特别是从事薄膜材料研究的科技人员和微电子机械领域从事设计制造的工程技术人员阅读，也可作为有关专业的研究生和大学高年级本科生的教材和参考书。本书英文版被美国哈佛大学、布朗大学、麻省理工学院、斯坦福大学等大学用作研究生教材。

第1章 引言和总论

第2章 薄膜应力和基底曲率

第3章 各向异性和图形薄膜中的应力

第4章 脱层和断裂

第5章 薄膜的翘曲、鼓包和剥离

第6章 外延系统中的位错形成

第7章 位错交互作用和应变弛豫

第8章 表面的平衡和稳定性

第9章 应力在传质中的作用

参考文献

英汉名词索引